Calibre2020 是Mentor Graphics公司专注为深亚微米工艺技术中复杂芯片设计的物理验证挑战而研发的业界第一个最高性能的环境和技术。它基于先进的层次化算法和技术，能够快速、准确、完善的对混合电路进行物理验证及寄生提取。目前，它已经被全球主流的foundry采用，并成为其内部的物理验证标准。在国内Calibre也已经被众多设计公司采用为深亚微米集成电路的物理验证工具。Calibre主要包含有以下几个模块，市面上主流版图编辑器与Calibre工具接口的Calibre interactive；版图验证工具Calibre nmDRC，Calibre LVS；层次化的验证模块nmDRC-H和LVS-H；具有图像侦错环境的Calibre RVE；大型GDSII版图数据快速读取模块Calibre DESIGNrev及混合级电路寄生提取工具Calibre xRC和xL。Calibre既可作为一个单点工具来使用，也可以集成在目前主流的版图工具中。Calibre物理验证平台涵盖了Signoff级验证的gds到mask的所有验证步骤，包括DRC,LVS,PEX，DFM以及可靠性验证，3D验证所有方面。
Calibre 是设计组织和代工厂广泛使用的最受欢迎的工具之一。Calibre 具有不同的模块，可在流片后执行各种功能。流片后工作流程的挑战是严格控制高晶圆产量，这将导致掩模时间和运营成本的减少。虽然前 OPC 阶段中来自模块的一些工作负载（例如分散条和偏差）是内存密集型的，但从 PM、OPC 和 MDP 生成的工作负载是延迟密集型的。它们依靠存储、网络和计算基础设施的性能来支持和补充 Calibre 的速度和质量。
Calibre 是片上硅 (SoC) 制造过程中最常用的工具之一。该流程处理从 Calma 图形数据系统 (GDSII) 到掩模流程的不同部分工作流程，分享高晶圆产量并降低运营成本。芯片设计公司分享的输入文件包括采用 GDSII 或开放式艺术作品系统交换标准 (OASIS) 格式的 SoC 的物理细节。虽然 Calibrea 应用程序正在得到更加优化以减少屏蔽时间，但底层存储基础设施在周转时间 (TAT) 方面也发挥着重要作用。基础设施由网络文件共享存储、网络层和计算群组成。
Mentor Graphics Calibre 2020.2 | 9.9 Gb软件开发商 Siemens EDA（前身为 Mentor Graphics）发布了 Calibre 2020.2。此设计解决方案分享完整的 IC 验证和 DFM 优化平台，可加快从创建到制造的设计速度，满足所有签核要求。
Siemens EDA（前身为 Mentor Graphics）是 IC 设计、验证和制造领域的领导者。我们的工具使客户能够设计创新 IC，这些 IC 正在推动全球数字化、高速有线和 5G 通信、云计算、自动驾驶和 AI 智能的一切。
由于 Calibre nmPlatform 的卓越性能、准确性和可靠性，Calibre Design Solutions 是 IC 验证的行业领导者。与代工厂、IC 设计公司和行业标准组织的紧密合作确保 Calibre 工具不断分享满足或超过最先进要求的创新功能，并分享真正的竞争价值。
Product: Mentor Graphics Calibre
Version: 2020.2_14.12 (aoi & aoj) *
Supported Architectures: x86_64
Website Home Page : http://www.mentor.com
Languages Supported: english
System Requirements: Linux *
Size: 9.9 Gb
Hardware
– Dual or Quad-Core CPU, clock speed of 2.0 GHz or better
– Graphics Processing Unit (GPU) OpenGL 2.0 capable, with at least 512 MB of VRAM
– System RAM: 8 GB>
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