全球电子设计创新的领导者 Cadence Design Systems, Inc. 推出了 Cadence PPC（Process Proximity Compensation）16.01.008-21.01.000，这是一个完整而全面的第三代掩模图形合成解决方案具有最快掩码周期时间的按构造 OPC。
Cadence ® Process Proximity Compensation (PPC) 可满足各类工艺技术对于准确度、较短的运行时间和灵活的易用性等方面的严苛要求。 这是我们的第三代计算光刻解决方案套件，经过生产验证，从大型节点到最先进的工艺，可为每一层分享最佳的蚀刻后 CD 准确度和硅工艺窗口。 不断扩展的系统对光刻设备的功能提出了越来越高的要求，传统的光学效应校正 (OPC) / 分辨率增强技术 (RET) 已经无法满足日益严格的计算光刻要求。 您可能需要努力提高精确度和易用性，并加快掩模周期。 加上不断增加的研发投资成本和有限的人力资源，OPC 团队面临的挑战是如何提高 OPC 模型的准确度，并使先进技术节点的掩模周期时间与前一代技术节点相差无几。
使用 Cadence Process Proximity Compensation (PPC)满足所有工艺技术的严格精度、短周转时间和灵活易用的要求。 这是第三代计算光刻解决方案套件，经过从大型节点到最先进工艺的生产验证，可为硅片的每一层分享最佳的蚀刻后 CD 精度和工艺窗口。
随着可用光刻设备的能力与激进的设备缩放要求之间的差距越来越大，传统的光学邻近校正 (OPC) / 分辨率增强技术 (RET) 方法无法跟上严格的计算光刻需求。您可能需要努力提高准确性和易用性，并加快面罩周期时间。再加上研发投资成本不断增加和人力资源有限，OPC 团队面临着为先进技术节点分享更好的 OPC 模型精度并保持与之前技术节点相同的掩膜周期时间的挑战。
这就是 PPC 的用武之地，它分享了一个完整而全面的第三代掩模图案合成解决方案，该解决方案是从头开始构建的，用于具有最快掩模周期时间的 correct-by-construction OPC。
Cadence 是电子设计和计算专业领域的关键领导者，利用其智能系统设计策略将设计概念变为现实。Cadence 的客户是世界上最具创造力和创新力的公司，为最具活力的市场应用分享从芯片到电路板再到系统的非凡电子产品。
Meet the stringent accuracy, short turnaround time, and flexible ease-of-use requirements for all process technologies with Cadence Process Proximity Compensation (PPC). This is a third-generation computational lithography solution suite and is production-proven from large nodes to most advanced processes to deliver the best post-etch CD accuracy and process window on silicon for every layer.
With the increasing gap between the capabilities of available lithography equipment and the requirements of aggressive device scaling, traditional optical proximity correction (OPC) / resolution enhancement technology (RET) methodologies are not able to keep up with the stringent computational lithography demands. You’ll likely need to work to enhance accuracy and ease-of-use and to accelerate mask cycle time. Coupled with the increasing cost of R&D investment and limited human resources, OPC teams are challenged to deliver better OPC model accuracy and maintain the same mask cycle time for an advanced technology node as they did for the previous technology node.
That’s where PPC comes in, delivering a complete and comprehensive third-generation mask pattern synthesis solution built from the ground up for correct-by-construction OPC with the fastest mask cycle time.
Product: Cadence PPC (Process Proximity Compensation)
Version: 16.01.008-21.01.000 *
Supported Architectures: x86_64
Website Home Page : http://www.cadence.com
Languages Supported: english
System Requirements: Linux **
Size: 28.2 Gb
* included:
Base_PPC16.01.008_lnx86_1of1.tar
Base_PPC16.02.001_lnx86_1of1.tz
Hotfix_PPC16.02.009_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC16.02.010-ISR10_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC16.02.011-ISR11_lnx86_1of1.tar
Base_PPC17.01.000_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC17.01.007-ISR7_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC17.01.008_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC17.01.009-ISR9_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC17.01.010-ISR10_lnx86_1of1.tar
Base_PPC18.01.000_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC18.01.001_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC18.01.001-ISR1_lnx86_1of1.tar
Hotfix_PPC18.01.001-ISR2_lnx86_1of1.tar
Base_PPC19.01.001_lnx86_1of1.tar
Base_PPC20.01.000_lnx86_1of1.tz
Base_PPC21.01.000_lnx86_1of1.tz
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